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中式型高速分散機GMD2000/4中試型研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品。
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中式型高速分散機,中式型高剪切分散機,中試型研磨分散機,實驗室中試研磨分散機,中試型分散機,中試型研磨機,專為實驗室研發(fā),模擬生產流程,為量產提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產機型配置相同,且分散頭的種類及相應線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產化之后不要重新調整,而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。
中試型研磨分散機是在中試型膠體磨的基礎上加入了一組分散盤,剪切細化能力要強于高剪切膠體磨。
GMD2000/4中試型研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000/4的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
SGN中試型研磨分散設備的膠體磨頭有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結構,一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結構,相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
GMD2000/4為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000/4中試型研磨分散設備有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送。
GMD2000膠體磨標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。 特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。
GMD2000膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。GMD2000設計耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有: -動密封動靜環(huán)材質搭配(碳化硅,合金等) -靜態(tài)密封圈材質選型(是否有腐蝕性物料,酸堿度等) -磨頭定轉子材質(不銹鋼,碳化鎢鈷,三氧化二鋁等) -是否需要我司配置電控柜。
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到大允許量的10%。 |
【膠體磨設備導航】
設備等級:化工級、衛(wèi)生S級、衛(wèi)生SS級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTG 熱保護、降噪型
膠體磨材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
膠體磨選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
膠體磨表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
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