懸浮聚合高品質(zhì)分散機,懸浮聚合分散機,懸浮聚合高速分散機,高分子高速分散機,高分子納米分散機

至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。

懸浮聚合溶有引發(fā)劑的單體以液滴狀懸浮于水中進(jìn)行自由基聚合的方法稱為懸浮聚合法。整體看水為連續(xù)相，單體為分散相。聚合在每個小液滴內(nèi)進(jìn)行，反應(yīng)機理與本體聚合相同，可看作小珠本體聚合。同樣也可根據(jù)聚合物在單體中的溶解性有均相、非均相聚合之分。如是將水溶性單體的水溶液作為分散相懸浮于油類連續(xù)相中，在引發(fā)劑的作用下進(jìn)行聚合的方法，稱為反相懸浮聚合法。

懸浮聚合法的典型生產(chǎn)工藝過程是將單體、水、引發(fā)劑、分散劑等加入反應(yīng)釜中，加熱，并采取適當(dāng)?shù)氖侄问怪３衷谝欢囟认逻M(jìn)行聚合反應(yīng)，反應(yīng)結(jié)束后回收未反應(yīng)單體，離心脫水、干燥得產(chǎn)品。

懸浮聚合所使用的單體或單體混合物應(yīng)為液體，要求單體純度>99.98%。

在工業(yè)生產(chǎn)中，引發(fā)劑、分子量調(diào)節(jié)劑分別加入到反應(yīng)釜中。引發(fā)劑用量為單體量的0.1%～1%。

去離子水、分散劑、助分散劑、pH調(diào)節(jié)劑等組成水相。水相與單體之比一般在75：25～50：50范圍內(nèi)。

各種單體的懸浮聚合過程都采用間歇法操作。

影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。

SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

    高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

2、設(shè)備特點

⑴ GR設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比：

高效、節(jié)能

傳統(tǒng)設(shè)備需8小時的分散加工過程，GR設(shè)備1小時左右完成，超細(xì)分散效果顯著，能耗降低；

高速、高品質(zhì)

傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi)，只完成宏觀分散加工，超細(xì)分散能力有限；GR設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000～15000轉(zhuǎn)之間，高線速度產(chǎn)生的剪切力，瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。

⑵GR設(shè)備與同類設(shè)備相比：

多層多向剪切分散

同類設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一，多級多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工，相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象；

GR設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念，裝配式結(jié)構(gòu)

懸浮聚合分散機,懸浮聚合高速分散機,高分子高速分散機,高分子納米分散機

 設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
　　電機形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、 
　　電源選擇：380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
　　電機選配件：PTC　熱保護(hù)、降噪型 
　　均質(zhì)機材質(zhì)：SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
　　均質(zhì)機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 
　　均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理 
　　進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍 
　　乳化機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
　　分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機，實驗室均質(zhì)機 
　　應(yīng)用于：奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥（除草劑、殺蟲劑）。

SGN乳化機設(shè)備型號表

GRS2000系列設(shè)備型號表

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