頭孢克肟混懸液分散機膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯而言更具優(yōu)勢。
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一、產品名稱:頭孢克肟混懸液分散機,頭孢克肟注射液分散機,獸藥混懸液分散機,醫(yī)藥混懸液分散機,醫(yī)藥分散機,混懸液分散機
二、頭孢克肟的性質及制備
頭孢克肟為口服用的第三代頭孢菌素類抗生素,適用于治療敏感菌所致的呼吸、泌尿和膽道等部位的感染。頭孢克肟對革蘭陰性桿菌產生的β-內酰胺酶高度穩(wěn)定,對革蘭陰性桿菌抗菌作用強于*代和第二代頭孢菌素,對革蘭陽性球菌抗菌作用不如*代和第二代頭孢菌素。
一般采用研磨混合法研制頭孢克肟混懸液,并一般采用高品質的研磨混合設備,因為混懸液的粒徑會影響產品的穩(wěn)定性以及藥性。
三、頭孢克肟混懸液研磨分散設備簡介
結合多家藥企案例,推薦采用GMSD2000系列研磨分散機進行頭孢克肟混懸液的研磨混合分散,一般粒徑可達DN90≤5μm,產品均勻度更高。并且GMSD2000系列更環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便,符合在線清洗和滅菌。
四、SGN研磨分散設備技術革新
膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯而言更具優(yōu)勢。串聯的話存在時間差,當物料通過膠體磨之后,磨細后物料會出現抱團的現象,再經過分散機分散,效果不是很好。而GMD超細研磨分散機的話,物料磨細后,瞬間又通過分散工作組,進行分散,在物料還未抱團之前,就進行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。
五、當所處理的物料要達到非常細的程度時候,對于設備的要求就會非常的高。而從設備角度來考慮的話,能夠達到超細的效果,要具備以下條件:
1、很強的剪切力,GMD2000系列研磨分散機轉速高達14000rpm,線速度為44m/s,是普通設備的4-5倍。
2、高精密度的定轉子,超細研磨分散機的定轉子分為兩級,一級為膠體磨磨頭,采用三級錯齒結構,磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學的設計。第二級是分散頭,SGN分散頭有六種不同的規(guī)格,從粗到細,越來越密,分散效果佳。
3、機械密封,超細的效果取決于高的轉速,而轉速越高機械密封的發(fā)熱量就會越大,設備的機械密封是否能夠耐的住這么高的轉速,國內大多數廠家的機械密封是無法
六、SGN分散機在醫(yī)藥行業(yè)的應用案例
1、頭孢類混懸液,采用GRS2000系列高剪切均質機,處理30min,粒徑可達5μm;
2、疫苗及脂肪乳乳化,采用SGN均質機,乳液粒徑可達300nm;
3、阿苯達唑混懸液,采用GRS2000均質機,14000rpm,粒徑可達10μm;
4、口服液,采用SGN均質機,14000rpm,20min,粒徑可達3μm;
當然還有其他方面的應用,以及具體工藝得出的結果不一定相同,供參考!
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz
電機選配件:PTC 熱保護、降噪型
均質機材質:SUS304、SUS316L、SUS316Ti
均質機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
乳化機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
分散均質機高剪切分散均質機,實驗室均質機
應用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農藥(除草劑、殺蟲劑)。
GMD高剪切研磨分散機選型表:
| 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1,000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
GMD 2000/10 | 3,000 | 4200 | 23 | 22 | DN50 / DN50 |
GMD 2000/20 | 8,000 | 2850 | 23 | 37 | DN80 /DN 65 |
GMD 2000/30 | 20,000 | 1420 | 23 | 55 | DN150 /DN 125 |
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